A HAM-LET, um fabricante global de instrumentação válvulas e acessórios para sistemas de entrega de fluido e gás industrial e de alta pureza, lançou no início de fevereiro a sua válvula de diafragma para deposição de camada atômica ultra-rápida (série UF).
A série UF oferece um desempenho superior da vedação e notável durabilidade em ambientes perigosos, com exigências rígidas de atuação ultra-rápida em aplicações de ultra-alta pureza (UHP).
Outra vantagem da válvula de diafragma UF é a sua excelente durabilidade e baixa manutenção, que oferece mais 100 milhões de ciclos de vida.
A série UF atende a demanda de válvulas de diafragma de alta precisão que pode executar um desempenho repetível e reprodutível ao longo de um número extremamente grande e freqüente de ciclos, requeridos pelas aplicações de ALD.
Além disso, a HAM-LET desenvolveu uma versão especial totalmente imersa e de alta temperatura da válvula UF para 120 °C, permitindo a indicação de posição e com designador de sensor indutivo especial. A companhia recebeu encomendas de série UF de um dos maiores fabricantes de equipamentos para a Samsung.
A HAM-LET realizou uma demonstração ao vivo da série UF no Semicon Coreia 2015, além da exposição da sua avançada válvula de esfera atuada, acessos Let-Lok, válvulas de processo e acessórios para HTC, disponíveis na Coreia através do seu distribuidor, a PFK.
